![]() |
Звоните! (926)274-88-54 Бесплатная доставка. Бесплатная сборка. |
Ассортимент тканей График работы: Ежедневно. С 8-00 до 20-00. Почта: soft_hous@mail.ru |
![]() ![]() ![]() |
Читальный зал --> Металлические покрытия МПП дом коричной кислоты: [ Г- снг- сн-2 +пст- сн=СН- CfiHg-* -[-CHz-CH-J+пиа. I I он о С0-СН=СН-СбК5 Под влиянием света происходит образование цепи .0 ..О , /-о-с-сн=сн-СбН5 /-o-c-cH-CH-CfiHs о I I СбНб-сн=сн-с-о I СвНз-сн-сл-с-о-/ Свойства ПВЦ зависят от характеристики исходного ПВС, в частности от степени его полимеризации. Для синтеза поливинилциннамата пригодны спирты с вязкостью 0,02 ... 0,075 Па-с (20 ... 75 спз). Готовый ПВЦ (ВТУ УПРПиК № 871-65) -порошок белого или желтоватого цвета, в отличие от ПВС растворяющийся лишь в органических составах, например в растворе толуола с хлорбензолом. Готовый фоторезист наносится различными способами (окунанием, центрифугированием, распылением Б электростатическом поле и др.) лишь на сухую заготовку. Максимум спектральной чувствительности при введении сенсибилизатора (длинноволновая граница)- 410 нм, разрешающая способность примерно 500 линий/мм. ПВЦ в силу сравнительно низкой чувствительности требует применения мощных ртутно-кварцевых ламп (типа СВДШ-500) с типовым монохроматором. Проявление ПВЦ ведется в трихлорэтилене, толуоле, хлорбензоле. Одним из способов проявления является обработка в парах растворителей. В настоящее время широко применяется проявление способом пульверизации: мелкодисперсная струя под давлением подается на слой резиста, что обеспечивает высококачественное про- явление изображения. Для интенсификации процесса проявления и удаления фоторезиста ПВЦ при изготовлении печатных плат предложено использовать наложе-74 иие ультразвука [33]. Процесс проявления состоит из трех стадий: набухание пленки фоторезиста, растворение ее, удаление продуктов реакции с поверхности платы. В первый момент после погружения плат в проявляющий раствор происходит размягчение и утолщение слоя резиста, обусловленное его набуханием. Набухание пленки является процессом внедрения низкомолекулярного раствора в высокомолекулярный слой резиста. В обычных условиях этот процесс протекает медленно и неравномерно, что делает невозможным организацию поточных линий по производству плат. Диффузия в ультразвуковом поле сильно ускоряется за счет акустических микропотоков, а образующиеся кави-тационные пузырьки, соприкасаясь с набухшим и разрыхленным слоем, проникают в поры и отбывают слой резиста от поверхности платы. Слой резиста, не защищенный от светового воздействия, не имеет пор, способных пропускать пузырьки, и поэтому не подвержен разрушающмеу действию ультразвука. Проявлялся ПВЦ в растворе трихлорэтилене-70% и толуола-30%- Основные характеристики процесса проявления ПВЦ Напряжение на выходе УЗ генератора, В.............80 ... 100 Зазор между поверхностью преобразователей и п.чатой, мм......45 ... 60 Температура раствора, К...... 288. . -303 Время проявления, с........ 10 Удаление задубленного слоя производилось в растворе хлористого метилена -75% и трихлорэтилена-25%. Проведенные исследования показали принципиальную возможность ультразвуковой интенсификации процессов проявления печатных плат и удаления фоторезиста. При этом обеспечивается высокое качество процессов, а длительность сокращается в 5... 8 раз по сравнению с существующей технологией. При изготовлении МПП применяется негативный фоторезист на основе поливинилциннамата типа ФН-5ТК. Выпускаемый в США фоторезист марки KPR ( Ко-(1ак Photo Resisb) близок по составу к отечественному фоторезисту на основе ПВЦ. В одном из патентов приводится состав KPR: поливинилциннамат 2,5-10~ кг метилацетатгликоль 100 мл сенсибилизатор (перинафтенон) 0,2510- кг. в фоторезистах на основе ПВЦ отсутствует темно-вое дубление, что позволяет организовать централизованное изготовление заготовок с нанесенным фоторезистом. Для фоторезистов этого типа характерна также исключительно высокая кислотостойкость. Поэтому не требуется никакой дополнительной обработки слоя (дубления). Тем не менее из-за сложности синтеза этого фоторезиста и связанной с этим высокой стоимостью его, а также необходимостью использования токсичных органических растворителей фоторезисты на основе ПВЦ не нашли широкого применения в производстве печатных плат и используются главным образом при изготовлении интегральных схем. Фоторезисты на основе акриловых полимеров (холодные эмали) Негативные фоторезисты типа ХЭ (холодная эмаль) -композиция сополимера метакриловой кисло-Тъц металметакрилата (5% по массе) и полиэфира ТГМ (2%). Инициатором полимеризации является бензо-ил-формальдегидная смола. Название холодные эмали отражает их высокую химическую стойкость, структуру образующихся пленок и возможность холодной обработки. Для обеспечения контроля качества рисунка вводится краситель - метилвиолет (до 0,05% по массе). Растворителем этого фоторезиста служит этиловый спирт. Вязкость эмали И ... 12 с (по ВЗ-4), толщина нанесенной пленки 8 ... 10 мкм. Срок хранения резиста в герметичной таре при неактиничном освещении около года. Резист наносится на сухую поверхность заготовки методом вытягивания в два слоя, первый слой сушится на воздухе 20 мин, а второй - 24 ч. Фоторезист не реагирует на обычный свет, максимум спектральной чувствительности 330 ... 370 нм. Для экспонирования применяются отечественные лампы ЛУФ-80, время экспонирования 3 ... 5 мин. При экспонировании происходит полимеризация композиции, образующийся слой характеризуется высокой химической стойкостью, что исключает необходимость проведения операций химического и термического дубления. При необходимости ретушь производят нитроэмалью. Фоторезист проявляется в (2 ... 4) % -ном растворе бикарбоната натрия (иногда для улучшения смачиваемо-76
ООО «Мягкий Дом» - это Отечественный производитель мебели. Наша профильная продукция - это диваны еврокнижка. Каждый диван можем изготовить в соответствии с Вашими пожеланияи (размер, ткань и материал). Осуществляем бесплатную доставку и сборку. Звоните! Ежедневно! (926)274-88-54 Продажа и изготовление мебели. Копирование контента сайта запрещено. Авторские права защищаются адвокатской коллегией г. Москвы. |