Читальный зал -->  Металлические покрытия МПП 

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 [ 17 ] 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81

тивных фоторезистов так, что при обработке в соответствующих растворах экспонированные участки разрушаются (вымываются).

Для зашиты рисунка схемы при использовании негативного фоторезиста экспонирование производят через негатив, при использовании позитивного фоторезиста - через позитив.

Светочувствительные вещества могут быть двух видов:

- вещества, чувствительность которых обусловлена введением добавок (например, фоторезист на основе ПВС);

- вещества, сами по себе обладающие чувствительностью к актиничному излучению, например, фоторезисты на основе диазосоединений, циклокаучуков, цинна-матов.

При выборе типа фоторезиста серьезное внимание уделяется его разрешающей способности, особенно для плат с плотным монтажом. Реально достижимая разрешающая способность зависит от всех факторов, действующих в фотохимическом процессе: плоскопараллель-ности подложки и слоя фоторезиста, дифракционных явлений на границах фотошаблон - воздух - фоторезист- подложка, диффузионного рассеяния света в слое и т. д. Позитивные фоторезисты имеют более высокую разрешающую способность, это объясняется различиями в поглощении слоем актиничного излучения. На разрешающую способность слоя будут влиять: 1) дифракционное огибание света на краю непрозрачного элемента фотошаблона; 2) диффузионное рассеяние света в слое резиста; 3) отражение света от подложки (см. рис. 6.1).

В слое негативного фоторезиста (например, на основе ПВС) дифракция не играет заметной роли, поскольку узкая область, заполимеризованная (сшитая) распространившимся под непрозрачный элемент светом, вымоется при проявлении. Напротив, область, сшитая в результате отражения от подложки, останется, так как она прочно связана с подложкой адгезионными силами и проявитель не оторвет ее от слоя, как в первом случае. В результате вокруг защитных участков сшитого негативного резиста появится ореол, который снижает разрешающую способность (рис. 6,2,fl). В слое позитивного резиста под влиянием дифракции разрушится и вымоется при проявлении верхняя область резиста под непро-

зрачными участками фотошаблона, это местное уменьшение мало скажется на защитных свойствах слоя (рис. 6.2,6). Свет, отраженный от подложки, вызовет разрушение прилегающей к ней области, но проявитель эту область может и не вымыть из-за противодействия адгезионных сил. Если некоторое вымывание и произойдет, то слой опустится вниз, вновь образуя четкий край

Резист

Подложна

Рис. 6.1. Влияние прохождения света на разрешающую способность светочувствительного слоя: / - дифракция; 2 - рассеяние; 3 - отражение.

Ореоп

Рис. 6.2. Характер граничного слоя в зависимости от типа фоторезиста:

с -негативный фоторезист (ПВС); б -позитивный фоторезист (фотопродукт на основе диазосоединений).

изображения без ореола. Разрешающая способность фоторезиста зависит и от равномерности толщины его слоя по всей заготовке.

В последнее десятилетие интенсивно разрабатывается проекционное экспонирование, что позволяет исключить дифракционные явления и улучшить качество рисунка. Отсутствие контактирования фотошаблона с заготовкой при экспонировании значительно увеличивает срок службы фотошаблона, что, в свою очередь, приводит к сокращению расходов на их изготовление. Кроме того, процесс проекционного экспонирования легко поддается автоматизации. Ограничение способа - малое рабочее поле при экспонировании. Все работы, связанные с получением рисунка схемы, независимо от типа 54

фоторезиста рекомендуется выполнять в помещений с кондиционированием воздуха и при неактиничном освещении.

Фоторезисты на основе поливинилового спирта

В полиграфической промышленности широко применяются светочувствительные системы на основе различных органических веществ природного происхождения (желатина, альбумина и др.). Очувствителями их чаще всего являются соли хромовой кислоты, сами по себе не светочувствительные. Чувствительность к облучению возникает только у системы коллоид - соль хромовой кислоты. Из солей хромовой кислоты лучшими являются бихроматы, которые в 4 ... 20 раз чувствительнее соответствующих монохроматов. Бихромат аммония дает более контрастный рисунок по сравнению с двухромово-кислым калием. С одной стороны, это объясняется тем, что бихромат аммония легче разлагается, благодаря чему задубливание коллоида наступает при меньшей освещенности. С другой стороны, участки коллоидного слоя, не подвергающиеся действию света, в присутствии ионов аммония набухают сильнее, вследствие чего рисунок получается более контрастным [26].

Широкому использованию природных коллоидов препятствует относительно низкая кислотостойкость, малая воспроизводимость их свойств, иногда дороговизна, непродолжительность хранения растворов. Поэтому сейчас стали широко использоваться для получения фоторезистов синтетические полимеры, в частности поливиниловый спирт (ПВС)

[...СН-СН2-СН-...] ОН ОН

Наличие гидроксильной группы ОН в каждом звене цепи определяет высокую гигроскопичность и полярность поливинилового спирта. При добавлении бихромата аммония к водному раствору ПВС происходит очувствление последнего. Для получения более стабильных результатов рекомендуется выдерживать готовый раствор в течение 24 ч, так как вследствие незначительной

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 [ 17 ] 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81

ООО «Мягкий Дом» - это Отечественный производитель мебели. Наша профильная продукция - это диваны еврокнижка. Каждый диван можем изготовить в соответствии с Вашими пожеланияи (размер, ткань и материал). Осуществляем бесплатную доставку и сборку.



Звоните! Ежедневно!
 (926)274-88-54 
Продажа и изготовление мебели.

Копирование контента сайта запрещено.
Авторские права защищаются адвокатской коллегией г. Москвы.