Звоните! 
 (926)274-88-54 
 Бесплатная доставка. 
 Бесплатная сборка. 
Ассортимент тканей

График работы:
Ежедневно. С 8-00 до 20-00.
Почта: soft_hous@mail.ru
Читальный зал -->  Металлические покрытия МПП 

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 [ 26 ] 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81

фоторезист разбухает незначительно, структура эпоксидных стеклопластиков не нарушается. Время проявления зависит от толщины фоторезиста и подбирается экс- периментально. Для оптимального проявления требуется приблизительно на 50% больше времени, чем для потери цвета неэкспонированного резиста. Раствор проявителя необходимо заменить, если время проявления на 20% больше времени проявления свежим раствором.

Для удаления заполимеризованного резиста применяют метиленхлорид в машинах струйного типа при температуре 287 ... 291 К, иногда используют трихлорэтан, нагретый до 313 К [35].

В последние годы за рубежом фирмой Dynachem разработаны сухие пленочные резисты, которые проявляются и смываются обычными водными растворами, например 2...3%-ным раствором тринатрийфосфата. Аналогичные исследования проводятся у нас в стране. Применение сухого фоторезиста значительно упрощает технологический процесс изготовления МПП, повышает ка-*чество и-процент выхода годных плат от 60 до 90%. Технологические процессы с использованием сухого пленочного фоторезиста (СПФ) имеют много преимуществ по сравнению с обычными:

- исключаются операции сушки, дубления и ретуширования;

- устраняется нестабильность слоев, характерная для жидких фоторезистов, чувствительных к повреждениям и требующих повторного нанесения для качественного формирования резистивного изображения;

- исключается операция лакировки плат, например, перед химическим меднением;

- исключается возможность загрязнения;

- получаемое изображение окрашено, что упрощает его контроль;

- обеспечивается защита отверстий от затекания фоторезиста и металлизированной схемы от попадания травильного раствора;

- появляется возможность нанесения более толстых покрытий с ровными краями.

Основные характеристки фоторезистов приведены в табл. 10.

Производство СПФ можно осуществить с высокой точностью в непрерывном процессе, который поддается автоматизации, т. е. соответствует современному инду-



стриальному производству фотоматериалов. Оборудование для использования пленочного резиста Ристон -Производительностью 6 ... 10 м/ч при изготовлении МПП размером-до 600X600 мм включает: ламинатор установку для двустороннего экспонирования со сканирующим источником света; установку конвейерного типа для двустороннего проявления фоторезиста. Перемеще-

Та блица 10-Основные характеристики фоторезистов

Максидгаль-

Срок хра-

Hai спект-

нения заго-

Фоторезист

Тип фоторезиста

ральная чувстви- . тельнссть,

Прояв.тте-пь

Сииматель фоторезиста

товки с нанесенным, слоем фоторезиста

Негативный

350...420

Вода

Щавелеьяя кислота с со.чью, перекись водорода, соляная кислота

З...Б ч

350...410

Трихлорэти-

Смесь орга-

До 1 г

лен, толуол, хлорбензол

нических

растворителей

Хлорбензол, бензин

Толуол

До 1 г Б>

темноте

ФП-383

Позитивный

Тринатрий-

Ацетон,

До 1 г

(диазо)

фосфат (3 . . . 5 /о-ный)

воздействие света

Негативный

330...370

Бикарбонат

натрия (2 . . . 4%-ный)

Горячий раствор щелочи

Около 1 г в герметичной таре

Рисон-!

1.1,1-

трихлорэтан

Метилен-хлорид

ние плат при проявлении в агрегате рщет по принципу встречного потока: обработка начинается в отработанном растворителе и заканчивается в свежем. Тщательная завершающая промывка полностью прекращает процесс растворения. Для уменьшения краевого искажения раз-6-272 81



меров необходимо строго контролировать температуру, давление струй проявителя и продолжительность проявления. Гидравлическое давление остро направленных струй усиливает действие растворителя и позволяет быстрее удалять продукты растворения [36]. Оборудование для проявления поставляется фирмой Дюпон в комплекте с дистилляционной установкой производительностью 100 л/ч для регенерации 1,1,1-трихлорэтана. Установка конвейерного типа для снятия фоторезиста выпускается в комплекте с дистилляционной установкой для регенерации хлористого метилена. В связи с высоким расходом хлористого метилена установка модернизирована: в ней установлены дополнительные холодильники и уплотнения.

У нас в стране разработаны и успешно внедрены сухой пленочный резист и соответствующее оборудование для нанесения СПФ (ламинатор), проявления (процессор), снятия фоторезиста, очистки растворов (дистиллятор).

Техническая характеристика установки для нанесения пленочного фоторезиста (рис. 6.9)

Максимальная ширина заготовки, мм 600

Скорость движения заготовки, м/мин 0,5. . .3,0 Температура нагрева СПФ, К . . . . 383 ... 393

Мощность, кВт.......... 2,5

Габаритные размеры, мм...... 966X680X1400

Масса, кг............. 60

Техническая характеристика установки для проявления СПФ (рис. 6.10)

Максимальные размеры заготовок, мм 500X500

Толщина заготовок, мм....... 0,06 ... 3

Скорость конвейера, м/мин..... 0,5 . . . 4

Мощность, кВт.......... 9,4

Габаритные размеры, мм...... 2740X1245X1385

Масса, кг............. 1360

Техническая характерислжа установки снятия пленочного фоторезиста (рис. 6.11)

Максимальные размеры заготовок, мм 500X500

Толщина заготовок, мм....... 0,06 ... 3.0

Скорость конвейера, м/мин..... 0,5. ..4

Мощность, кВт.......... 9,4

Габаритные размеры, мм...... 2900X1100X1175

Масса, кг............. 1400



1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 [ 26 ] 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81



ООО «Мягкий Дом» - это Отечественный производитель мебели. Наша профильная продукция - это диваны еврокнижка. Каждый диван можем изготовить в соответствии с Вашими пожеланияи (размер, ткань и материал). Осуществляем бесплатную доставку и сборку.



Звоните! Ежедневно!
 (926)274-88-54 
Продажа и изготовление мебели.


Копирование контента сайта запрещено.
Авторские права защищаются адвокатской коллегией г. Москвы
.