Читальный зал -->  Металлические покрытия МПП 

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 [ 25 ] 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81

сти добавляют ПАВ типа ОП-7) в течение 5 ... 7 мин при 291 ... 298 К и покачивании заготовк№или раствора. Затем необходимо промыть заготовку в холодной проточной воде. Раздубливание ХЭ проводится в горячем растворе щелочи в течение 15 с. Холодная эмаль внедряется при изготовлении ПП химическим и комбинированным негативным методами. Этот фоторезист разработан в УНИИПе. В настоящее время исследуется новый фоторезист для печатных плат (ФПП) по типу холодной эмали, где одним из сополимеров является бутилмета-крилат.

Фоторезисты на основе синтетических циклокаучуков

Негативные фоторезисты на основе синтетических циклокаучуков (СЦК) характеризуются собственной светочувствительностью, обусловленной их строением, наличием двойных связей. Под действием ультрафиолетового излучения фоторезист переходит в нерастворимое состояние. Светочувствительность слоев практически не изменяется при хранении в темноте при комнатной температуре в течение года. Применение таких растворителей, как хлорбензол, толуол, трихлорэтилен, практически не влияет на светочувствительность слоя. Подогрев слоя в момент экспонирования приводит к. увеличению светочувствительности. Фоторезист состоит из следующих компонентов:

циклокаучук (ГИПИ-4) 5-10~кг

бисазид 0,3-10 кг

толуол 8 мл

хлорбензол 12 мл.

Бисазид вводится для увеличения светочувствительности СЦК и тем не менее даже с введенным сенсибилизатором она остается сравнительно низкой.

Экспонирование образцов производится мощными лампами ДРШ-250. Максимальная спектральная чувствительность фоторезиста 265 им [34]. Эти фоторезисты из-за высокой степени полимеризации каучука характеризуются стойкостью к действию многих химических реагентов, как кислот, так и щелочей, а также отличаются высокими диэлектрическими свойствами, что позволяет использовать их в качестве изоляционного слоя при изготовлении многослойных пленочных микросхем.

в качестве проявителя СЦК используется хлорбензол. Фоторезист типа ФН-П на основе циклокаучука и органического басазида выпускается отечественной промышленностью по ТУ МХП6-14-631-71. Недостаточная светочувствительность, применение токсичных и пожаро-взрывоопасных растворителей ограничивают применение этого фоторезиста.

В заключение необходимо отметить присущие всем жидким фоторезистам недостатки: неоднородность по толщине, возможность загрязнения и повреждения слоя, недостаточная устойчивость в рабочих растворах, затекание фоторезиста в металлизированные отверстия заготовок, необходимость принятия мер предосторожности *=при удалении некоторых фоторезистов в процессе проявления МПП, например, органическими растворителями. Минимальная, но труднодостижимая в условиях серийного производства ширина проводников и зазоров при использовании жидких фоторезистов составляет лишь 250 мкм.

* Возрастающие требования к точности и качеству печатных схем, необходимость автоматизации процессов и увеличения выпуска их привело к созданию фоторезистов нового типа - сухих.

Сухие фоторезисты

Фирмой Дюпон в 1968 г. был разработан сухой негативный фоторезист марки Ристон для производства печатных плат, а также создан весь необходимый комплекс технологического оборудования для этих целей. Пленочный резист Ристон представляет собой загущенный раствор фотополимера на основе полиметилметакри-лата, заключенный между полиэтиленовой и лавсановой пленками. Толщина защитных пленок 25 мкм. При нормальных условиях резист может сохранять свои свойства в течение года. Стоимость его находится в прямой зависимости от толщины фоторезистивного слоя.

Сухой фоторезист позволяет получить проводники шириной 100 мкм с аналогичными зазорами и четкими краями. Для жидких фоторезистов минимальная ширина проводников и расстояний между ними 250 ... 380 мкм.

Фирма Дюпон выпускает три типа Ристона : толщиной 18 мкм - красный; 45 мкм - голубой, 72 мкм - рубиновый. Резист красного цвета применяется в каче-78

стве защитного рельефа при травлении меди, а также при нанесении тонких гальванических покрытий; голубой- для образования защитного рельефа при нанесении более толстых гальванических покрытий (например, при изготовлении МПП методом сквозной металлизации); рубиновый- для получения наиболее толстых гальванических покрытий (например, при аддитивном процессе изготовления плат). Все типы фоторезистов выпускаются в рулонах различной ширины (12 размеров от 102 до 610 мм).

Нанесение (ламинирование, плакирование) сухого фоторезиста производится на предварительно подготовленную поверхнЬсть заготовки. Перед ламинированием фоторезист нагревается до 383 ... 393 К, а заготовка - до 323 ... 325 К. Скорость нанесения фоторезиста 0,8 ... ... 1 м/мин. Слой полиэтилена снимается специальным приспособлением и наматывается на валик, а фоторезист с помощью валкового механизма под действием нагрева и давления наносится на фольгу заготовки. Накатанная пленка резиста должна быть выдержана не менее 30 мин для акклиматизации перед экспонированием, чтобы в ней завершились все усадочные деформирующие процессы, которые могут вызвать искажение размеров рисунка. Полиэфирная пленка является защитной, и в процессе экспонирования она остается на фоторезисте вплоть до проявления. Процессы нанесения фоторезиста и последующего проявления механизированы.

Сухой резист полимеризуется под действием ультрафиолетового облучения. Максимум спектральной чувствительности находится в области 350 им, поэтому экспонирование производится с помощью ртутных ламп высокого давления. Время экспонирования для требуемой полимеризации резиста зависит от типа и интенсивности источника света и определяется экспериментально для каждой копировальной рамы. Для этого используется стандартный фотоклин с 21 ступенью светопропускания. Оптимальное время экспонирования то, при котором получается твердая блестящая пленка фотополимера в интервале 10 ... 12 ступеней. Шаблон стандартного фотоклина экспонируется в тех же условиях, что и рабочие фотошаблоны.

Проявление сухого фоторезиста обычно производится распылением 1,1,1-трихлорэтана в машинах струйного типа при температуре 291 К. Этот раствор малотоксичен,

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 [ 25 ] 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81

ООО «Мягкий Дом» - это Отечественный производитель мебели. Наша профильная продукция - это диваны еврокнижка. Каждый диван можем изготовить в соответствии с Вашими пожеланияи (размер, ткань и материал). Осуществляем бесплатную доставку и сборку.



Звоните! Ежедневно!
 (926)274-88-54 
Продажа и изготовление мебели.

Копирование контента сайта запрещено.
Авторские права защищаются адвокатской коллегией г. Москвы.